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我司為山西某客戶濕磨白炭黑納米研磨分散獲得成功
日期：2016-11-14瀏覽：1979次
11-11山西某客戶來訪我司，并使用我司新研制的GMD2000/04設備進行原始粒徑為微米級的白炭黑的研磨分散實驗，zui終研磨后的漿料粒徑平均值小于360nm，*符合客戶的使用要求，大獲成功！
GMD2000改性白炭黑管線式高剪切研磨分散機是一種超細微具有活性的二氧化硅粒 子, 化學名稱為水合無定形二氧化硅或膠體二氧化 硅, 是一種重要的精細無機化工產品. 根據制備方 法的不同, 白炭黑分為氣相法白炭黑和沉淀法白炭 黑. 氣相法白炭黑主要采用四氯化硅在氫氧火焰中 高溫水解而制備, 沉淀法白炭黑主要采用硅酸鈉與 無機酸中和沉淀反應而制備。
GMD2000改性白炭黑管線式高剪切研磨分散機具有特殊的表面結構( 帶有表面羥基和 吸附水) 、 特殊的顆粒形態( 粒子小, 比表面積大等) 和*的物理化學性能, 廣泛應用于橡膠、 塑料、 涂 料、 醫藥、 日用化工諸多領域. 然而, 由于白炭黑內部的聚硅氧和外表面存在 的活性硅醇基及其吸附水, 使其呈親水性, 在有機 相中難以濕潤和分散, 而且, 由于其表面存在羥基, 表面能較大, 聚集體總傾向于凝聚。
SGN改性白炭黑膠體磨，是SGN公司研發出來的新品，是由膠體磨和分散機組合而成的。將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。白炭黑既可以有效分散，又可以防止團聚。
根據檢測，SGN的膠體磨可以將白炭黑磨到397nm，圖片中有粒徑檢測報告，遠遠超出了客戶的理想效果！
（價格電議，錢，：，3442036080）
GMD2000改性白炭黑管線式高剪切研磨分散機在設計上的突出優點在于：
1、轉速zui高可達14000轉，相較其它廠家2900轉左右高出約三倍：
2、磨頭結構更精密并有*設計,使之研磨作用力更大，效果更好。
3、德國進口雙端面機械密封擁有*結構和特殊材質保證高速運轉和長使用壽命。
4、GMD2000/5中試型研磨機與大型工業管線式量產機型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應線速度相同，中試過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整，從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到zui低。
改性白炭黑膠體磨是由膠體磨、乳化分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。
GMD2000改性白炭黑管線式高剪切研磨分散機：
| 膠體磨 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| GMD 2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| GMD 2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| GMD2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 |
| GMD2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| GMD2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| GMD2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
GMD2000改性白炭黑管線式高剪切研磨分散機信息來源：www.sgnprocess。。ｃｏｍ
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